Charakteristiky:

1) Rýchlosť nitridácie je vyššia, nitridačný cyklus sa dá primerane skrátiť a čas iónovej nitridácie sa dá skrátiť na 1/3 až 2/3 času plynovej nitridácie.

2) Krehkosť nitridovanej vrstvy je malá a biela vrstva vytvorená na povrchu plazmovej nitridácie je veľmi tenká alebo dokonca žiadna. Okrem toho je deformácia spôsobená nitridačnou vrstvou malá, čo je obzvlášť vhodné pre presné súčiastky so zložitými tvarmi.

3) Možno ušetriť energiu a spotrebu amoniaku. Spotreba elektrickej energie je 1/2 – 1/5 spotreby plynovej nitridácie a spotreba amoniaku je 1/5 – 1/20 spotreby plynovej nitridácie.

4) Lokálna nitridácia sa dá ľahko realizovať, pokiaľ časť, ktorá nechce nitridovať, nevytvára žiaru, časť, ktorá nie je nitridovaná, sa dá ľahko chrániť a žiaru možno chrániť mechanickým tienením a železnou doskou.

5) Iónové bombardovanie môže vyčistiť povrch a automaticky odstrániť pasivačný film. Nerezová oceľ a žiaruvzdorná oceľ sa môžu nitridovať priamo bez predchádzajúceho odstránenia pasivačného filmu.

6) Štruktúru zloženej vrstvy, hrúbku a štruktúru infiltračnej vrstvy je možné kontrolovať.

7) Rozsah teplôt spracovania je široký a určitú hrúbku nitridovanej vrstvy je možné dosiahnuť aj pod 350 °C.

8) Zlepšili sa pracovné podmienky. Nitridačná úprava plazmou bez znečistenia sa vykonáva za veľmi nízkeho tlaku s veľmi malým množstvom výfukových plynov. Zdrojom plynu je dusík, vodík a amoniak a v podstate nevznikajú žiadne škodlivé látky.

9) Môže sa aplikovať na všetky druhy materiálov vrátane nehrdzavejúcej ocele, žiaruvzdornej ocele s vysokou teplotou nitridácie, nástrojovej ocele a presných dielov s nízkou teplotou nitridácie, zatiaľ čo nízkoteplotná nitridácia je pri plynovej nitridácii dosť náročná.